铝上阳极膜厚度测量仪主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点。
其厚度用表面电阻来表示，单位是Ω，数值越大说明镀铝层厚度越薄，一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0-2.5Ω。其试验原理：试样金属镀层为一段金属导体，依据欧姆定律测量规定长度和宽度试样的金属镀层电阻值，以方块电阻表示金属镀层的厚度或直接计算其厚度。标准中对真空金属镀层厚度测量装置也进行了明确规定，要求电阻测量误差不大于±1%，装置的测量宽度不小于100mm，两测量头间的距离精度为±0.10mm。
铝上阳极膜厚度测量仪基于薄膜干涉，这是一种物理现象：薄膜上下表面反射的光波会相互干扰，产生光的干涉现象，进而增强或减弱反射光。当膜的厚度是其反射光的1/4波长的奇数倍时，来自两个表面的反射光会相互抵消，因此光不会被反射，全部透射过去了。当厚度是光的1/2波长的倍数时，两个反射波会互相增强，从而增加反射并降低透射。
因此，当由一组波长组成的白光入射到薄膜上时，某些波长(颜色)的光被增强，而其他波长则被减弱。在这种装置中，光学系统在物体表面成一个点源的像。反射回来的散射的光由同一光学系统收集，该光学系统将光点成像在一个针孔上。针孔位于光电探测器的前面。它可以过滤到达光谱仪的光线，因此也称为“空间过滤器”。
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